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環境評估平臺

真空磁控離子濺射鍍膜儀
發布日期:2022-09-26         點擊量:

品牌

QUORUM

型號

Q150V S Plus

放置地點

繼續教育學院104

負責人

徐曉龍/王向科

聯系方式

15656017000/13424924251

使用方式

培訓預約使用

主要技術指標

1. 真空系統:5m3/hr旋轉機械泵+70L/s風冷渦輪分子泵(儀器內部);系統極限真空度為1 x 10-6 mbar;濺射工作真空范圍:鍍金時真空在5x 10-3和1 x 10-1mbar之間;

2. 濺射電流:0-150mA連續可調;采用低電壓恒流冷濺射方式;

3. 濺射時間:可預設濺射時間;一次真空條件下1-3600秒連續可調;

4. 濺射靶材:標配直徑57mm圓片鉻靶1塊。

研究領域

制備各類金屬、非金屬的功能性薄膜。

測試內容

管理辦法

□有 □無

委托測試單

□有 □無

儀器狀態

正常

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